第659章 光刻机里的DPP方案 (第1/3页)
“目前我们的库存勉强能够对付一年，如果一年后还没有完全寻找到国产替代的话，就要面临停产，又或者冒着良率下降的风险，硬着头皮去做。”
沪上，华芯国际。
梁老忧心忡忡道：“芯片设计不是什么大问题，玄武EDA完成度很高，但无论如何设计出来的芯片也只是个PPT，最终还是要落地的。”
目前，国内芯片供应链在部份领域已实现突破，但几个关键环节仍依赖国外进口，尤其在高端芯片制造、核心设备和材料、特定芯片设计工具等方面存在显著短板。
陈平江的天元资本早期投资那些国产芯片产业链是有效果的，但仍然不足以颠覆多年的差距。
孟老也道：“目前国内的芯片自给率差不多40%，高端芯片完全依赖进口，现在三星和台积电已经成功量产出7纳米，我们追赶的脚步一刻也不能停下，幸好14纳米制造工艺突破有望，但更高的7纳米就玄乎了，光刻机始终是个绕不过去的坎儿。”
他话音一转，“不过采用多重曝光技术的话，应该可以通过DUV实现7纳米。”
好消息是长江存储和长鑫存储提前两年布局，所以DRAM和NAND闪存芯片不再需要通过三星和海力士进口。
坏消息是射频芯片和FPGA芯片仍然无法解决。
“射频芯片的国产替代方案是唯捷创芯的产品，但良率是个大问题。”
FPGA芯片说白了就是逻辑芯片，翻译过来叫做现场可编程门阵列。
FPGA广泛应用于通信基站和工业控制领域，但国内厂商如紫光同创、安路科技等尚处于技术追赶阶段，市场份额几乎被赛灵思和英特尔垄断。
虽然早就预料到突破的过程会非常难，但只有真正深入进去才知道有多难。
这就像是码农写代码，但凡哪里写的不对，就会导致最后程序跑不通。
半导体材料领域同样困难重重。
12英寸硅片主要依赖日本信越化学、SUMCO等企业，国产化率不足20%。
国产替代方案是沪硅产业和中环股份。
前者在去年实现12英寸硅片小规模量产，但仍处于技术验证和产能爬坡阶段；后者在8英寸硅片领域已实现稳定供应
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